Investigation of the Pu 240 (n,f) reaction at the n_TOF/EAR2 facility in the 9 meV-6 MeV range

A. Stamatopoulos, A. Tsinganis, N. Colonna, M. Kokkoris, R. Vlastou, M. Diakaki, P. Žugec, P. Schillebeeckx, F. Gunsing, M. Sabaté-Gilarte, M. Barbagallo, O. Aberle, J. Andrzejewski, L. Audouin, V. Bécares, M. Bacak, J. Balibrea, S. Barros, F. Bečvář, C. BeinruckerF. Belloni, E. Berthoumieux, J. Billowes, D. Bosnar, M. Brugger, M. Caamaño, S. Lo Meo, F. Calviño, M. Calviani, D. Cano-Ott, F. Cerutti, E. Chiaveri, G. Cortés, M. A. Cortés-Giraldo, L. Cosentino, L. A. Damone, K. Deo, C. Domingo-Pardo, R. Dressler, E. Dupont, I. Durán, B. Fernández-Domínguez, A. Ferrari, P. Ferreira, P. Finocchiaro, R. J.W. Frost, V. Furman, K. Göbel, A. R. García, I. Gheorghe, T. Glodariu, I. F. Gonçalves, E. González-Romero, A. Goverdovski, E. Griesmayer, C. Guerrero, H. Harada, T. Heftrich, S. Heinitz, A. Hernández-Prieto, J. Heyse, D. G. Jenkins, E. Jericha, F. Käppeler, Y. Kadi, T. Katabuchi, P. Kavrigin, V. Ketlerov, V. Khryachkov, A. Kimura, N. Kivel, I. Knapova, M. Krtička, E. Leal-Cidoncha, C. Lederer, H. Leeb, J. Lerendegui-Marco, M. Licata, R. Losito, D. Macina, J. Marganiec, T. Martínez, C. Massimi, P. Mastinu, M. Mastromarco, F. Matteucci, E. Mendoza, A. Mengoni, P. M. Milazzo, F. Mingrone, M. Mirea, S. Montesano, A. Musumarra, R. Nolte, F. R. Palomo-Pinto, C. Paradela, N. Patronis, A. Pavlik, J. Perkowski, A. Plompen, J. I. Porras, J. Praena, J. M. Quesada, T. Rauscher, R. Reifarth, A. Riego-Perez, M. Robles, C. Rubbia, J. A. Ryan, A. Saxena, S. Schmidt, D. Schumann, P. Sedyshev, A. G. Smith, S. V. Suryanarayana, G. Tagliente, J. L. Tain, A. Tarifeño-Saldivia, L. Tassan-Got, S. Valenta, G. Vannini, V. Variale, P. Vaz, A. Ventura, V. Vlachoudis, A. Wallner, S. Warren, M. Weigand, C. Weiss, T. Wright

    Research output: Contribution to journalArticlepeer-review

    6 Citations (Scopus)

    Fingerprint

    Dive into the research topics of 'Investigation of the Pu 240 (n,f) reaction at the n_TOF/EAR2 facility in the 9 meV-6 MeV range'. Together they form a unique fingerprint.

    Material Science

    Engineering

    Physics